EUV光刻机每天需要大约3万千瓦时一年大约消耗1000万千瓦时

产业链消息人士移动芯片制造商在微博中表示，由于先进工艺产能利用率开始下降，且下降时间将在评估后持续一段时间，TSMC计划从年底开始关闭部分EUV设备，以节省EUV设备的巨大功耗根据之前的报道，EUV光刻机每天需要大约3万千瓦时，一年大约消耗1000万千瓦时

本站了解到，今年7月开始有消息传出由于消费电子市场的低需求，许多芯片制造商被客户削减，甚至TSMC也难以幸免它还表示，许多芯片价格频繁暴跌，有些芯片价格下降了80%，有些芯片价格从200元下降到21.5元此前，缺芯潮席卷全球，众多芯片厂商大幅扩产以满足客户需求，快速抢占市场但今年以来，消费电子市场需求明显下降，导致相关芯片供过于求，出现了砍单降价的现象，厂商纷纷取消扩产计划

据介绍，TSMC目前拥有约80台EUV光刻机，主要用于7nm，5nm，4nm等先进工艺今年9月，TSMC还将计划量产3纳米工艺，所有这些都需要EUV光刻机可是，苹果可能是唯一订购3纳米工艺的客户因此，TSMC决定放缓其生产扩张，以确保产能不会过度闲置，造成成本压力

据彭博新闻报道，ASML新的EUV光罩对准器的每个单元消耗大约100万瓦特，大约是前几代的10倍预计2025年将占台湾省能源消耗总量的12.5%，芯片产业可能成为降低全球碳排放的重要绊脚石

不过，针对外界对发展先进工艺耗费大量电力的质疑，TSMC引用了ITRI产业科学技术国际战略发展研究所2020年的模型推导和分析结果，称TSMC每使用1度生产用电，可为全球节约4度电。

TSMC表示，该公司继续推广先进的半导体工艺技术，以生产更先进，节能和环保的产品此外，公司积极投资绿色制造，实施节能减碳相关行动，包括努力优化工艺能效，同时与机器设备制造商合作制定新的节能行动计划

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